晶圓分子束外延所使用的樣品為2-4英寸晶圓。為了保證成膜的均勻性，在生長(zhǎng)過程中樣品可連續(xù)旋轉(zhuǎn)。加熱器采用內(nèi)外層分別加熱和控溫，保證良好的均勻性。這種MBE主要用于對(duì)樣品尺寸有一定要求的，面向工業(yè)應(yīng)用的生產(chǎn)和研發(fā)。
● 加熱器為內(nèi)外環(huán)加熱，溫度一致性好
● 樣品連續(xù)旋轉(zhuǎn)，蒸鍍均勻
● 操作方便，可快速學(xué)會(huì)使用
● 可靠性好，能保證長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作
● 配件、材料選擇考究保證極低的本底真空
△ 可定制功能：
● 腔體結(jié)構(gòu)、傳樣機(jī)構(gòu)，泵組、真空規(guī)及其品牌型號(hào)
● 樣品尺寸
● 樣品操作臺(tái)行程
● 蒸發(fā)源口徑、溫度、加熱方式和數(shù)量
● 快速進(jìn)樣室進(jìn)樣和存樣機(jī)構(gòu)的樣品數(shù)量
● 可擴(kuò)展反射式高能電子衍射儀、紅外測(cè)溫儀、膜厚儀、氣源等
● 程序控制功能
● 腔體可做無(wú)磁處理
晶圓分子束外延系統(tǒng)（Wafer MBE）
